化學(xué)機械拋光機
儀器名稱：化學(xué)機械拋光機
品牌: 布魯克
型號：TriboLab CMP
產(chǎn)地：美國
儀器介紹：
1.加載方式：伺服控制閉環(huán)加載；
2.樣片夾持方式：水表面張力吸附夾持；
3.拋光速率（硅晶圓片）：300nm/min；
4.最小粗糙度（硅晶圓片）：1nm；
5.化學(xué)機械拋光機主要用于Si、SiC、Ge、GaN等半導(dǎo)體材料，SiO2、Si3N4、CeO2、GeO、Al2O3等金屬氧化物以及Al普通金屬和Au、Pt等惰性金屬的化學(xué)機械拋光工藝。
